专利名称：正性光刻胶组成物及其制备方法专利类型：发明专利
发明人：杨洪,赵晓芳,郭玲香,林保平申请号：CN201110360724.3申请日：20111115公开号：CN102402119A公开日：20120404
摘要：本发明公开了一种可在碱性水溶液中显影的正性光刻胶组成物，该光刻胶组合物只包括a)光刻胶树脂b)光刻胶溶剂。该光刻胶树脂中含有邻硝基苄基结构，在紫外曝光时能发生化学变化，使得该光刻胶在显影液中的溶解度发生变化，即该光刻胶不用加入光致产酸剂、感光剂等额外添加剂就能够显影，得到具有较高分辨率的图像，满足其作为光致抗蚀剂的要求。
申请人：东南大学
地址：211189 江苏省南京市江宁开发区东南大学路2号
国籍：CN
代理机构：南京天翼专利代理有限责任公司
代理人：汤志武
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