一种铌酸锂晶体高效超光滑化学机械抛光方法[发明专利]

来源：世旅网

专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：一种铌酸锂晶体高效超光滑化学机械抛光方法专利类型：发明专利

发明人：张振宇,王博,张念民,徐朝阁申请号：CN201410197096.5申请日：20140512公开号：CN103978406A公开日：20140813

摘要：一种铌酸锂晶体高效超光滑化学机械抛光方法，属于非线性光学晶体超精密加工技术领域。其特征是样品为铌酸锂晶片，采用固结磨料研磨、保持环硬抛光垫抛光、保持环软抛光垫化学机械抛光相结合的加工方法，硬抛光垫为合成革或聚氨酯抛光垫，软抛光垫为无纺布或绒毛抛光垫。化学机械抛光液的pH值为10.2-10.6，含有氧化铈、氧化硅、氢氧化钾、氢氧化钠、氢氧化钡、高锰酸钾、双氧水、柠檬酸、醋酸、草酸中的四种。固结磨料研磨时间为15-25min，硬抛光垫抛光时间为50-70min，化学机械抛光时间为3-6min。化学机械抛光的材料去除率为420-460nm/min，抛光后铌酸锂的平面度为3.8-5.5μm，表面粗糙度R为0.35-0.5nm，PV值为3.8-6nm。本发明的效果和益处是实现了非线性光学晶体高效超光滑抛光方法。

申请人：大连理工大学

地址：116024 辽宁省大连市甘井子区凌工路2号

国籍：CN

代理机构：大连理工大学专利中心

代理人：侯明远

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